أعلنت شركة تايوان لصناعة أشباه الموصلات، الرائدة عالميًا في تصنيع الرقائق المتقدمة، أنها بدأت الإنتاج الكمي لشريحة 2 نانومتر منذ الربع الرابع من عام 2025، وفقًا لتحديث رسمي نشرته على موقعها الإلكتروني ونقله موقع Focus Taiwan.

وقالت الشركة إن الإنتاج يتركز حاليًا في مصنع 22 في كاوشيونج، معتمدًا على الجيل الأول من تقنية الترانزستور النانوشيتية، التي ساعدت على تحقيق تقدم كبير في الأداء وكفاءة استهلاك الطاقة.

وأوضحت TSMC أن تقنية 2 نانومتر تعد الأكثر تقدمًا في صناعة أشباه الموصلات من حيث كثافة الترانزستورات وكفاءة الطاقة، وتم تصميمها لتلبية الطلب المتزايد على الحوسبة الموفرة للطاقة، لا سيما في تطبيقات الذكاء الاصطناعي والأجهزة المحمولة.

وأشارت الشركة إلى أن الشريحة توفر زيادة في السرعة تتراوح بين 10 و15 بالمئة عند نفس مستوى استهلاك الطاقة، أو خفض استهلاك الطاقة بنسبة 25 إلى 30 بالمئة عند نفس السرعة، مع زيادة كثافة الترانزستورات بأكثر من 15 بالمئة مقارنة بشرائح 3 نانومتر السابقة.

وأكدت TSMC أنها تعمل حاليًا على تطوير نسخة محسّنة من تقنية 2 نانومتر باسم N2P، والتي من المتوقع أن تدخل الإنتاج الكمي خلال النصف الثاني من عام 2026.